“반도체 공정의 패러다임 전환”.. 플랑크랩의 ‘리쏘 마스크리스’ 기술 주목
플랑크랩은 설계 즉시 노광이 가능한 디지털 노광 장비 '리쏘 마스크리스(LITHO Maskless)'를 선보이며 반도체 개발의 디지털 전환을 이끌고 있다고 28일 밝혔다. 해당 장비는 포토마스크 없이 반도체 회로 패턴을 기판에 노광할 수 있는 장비로, 이미지 모양 그대로 노광할 수 있어 간편하다. PNG, JPG, BMP 등 다양한 이미지 파일로 즉시 UV패터닝이 가능해 마스크 제작에 소요되던 시간과 비용을 0으로 단축하고 연구 속도도 크게 향..